全球光刻设备市场 – 行业趋势及 2029 年预测

光刻设备市场分析及规模

光刻设备最近已用于制造纳米粒子和微型计算系统。消费电子行业的日益增长促进了全球光刻设备市场的发展。此外，制造商鼓励使用便携式设备的趋势为市场创造了许多可能性，预计将推动全球光刻设备市场的增长。 

Data Bridge Market Research 分析称，2021 年光刻设备市场价值为 142.2509 亿美元，预计到 2029 年将达到 411.5133 亿美元，在 2022 年至 2029 年的预测期内复合年增长率为 14.20%。除了对市场价值、增长率、细分、地理覆盖范围和主要参与者等市场情景的见解外，Data Bridge Market Research 策划的市场报告还包括深入的专家分析、按地理位置表示的公司生产和产能、分销商和合作伙伴的网络布局、详细和更新的价格趋势分析以及供应链和需求的缺口分析。

光刻设备市场范围和细分

市场定义

光刻设备用于利用光束或电子束和图案化掩模选择性地曝光光刻胶层，将电路或器件图案转移到基板上。光刻经过几个步骤才能生产出一个微流体器件。

光刻设备市场动态

驱动程序

• 电子行业需求不断增长

光刻设备广泛应用于微处理器和印刷电路板的制造，集成电路（IC）行业对光刻设备的需求激增，计算机芯片产量上升，以及全球电子封装市场快速增长，都是预计推动光刻设备市场增长的因素。

• 光刻技术的优势

光刻技术具有多种优点，包括高分辨率、对光的高灵敏度、优异的粘附特性以及将细胞 3D 封装在水凝胶内的能力，预计所有这些因素将在上述预测期内推动市场对光刻设备的需求。

此外，城市化进程加快和可支配收入水平提高将推动市场价值增长。由于对印刷电路板的需求不断增加，预计电子行业将增加对光刻设备的使用。

机会

• 晶圆制造投资增加

晶圆制造材料和设备的投资不断增加，预计将为未来几年光刻市场的增长创造潜在的增长机会。

此外，各大公司正在引进技术先进的光束技术，这些技术具有高精度、高频率和高精度，以及具有先进指令集的高可靠性光刻技术。在市场上运营的公司正在使用合并和合作等有机策略以及新产品发布来增加其市场份额。

限制/挑战

• 成本高

光刻设备的高成本是2022-2029年预测期内阻碍光刻设备市场扩张的重要因素。

• 柔性集成电路生产

柔性集成电路的制造阻碍了光刻设备市场的需求，这是一个特别成问题的方面。这方面预计将对市场的收入增长产生负面影响。

本光刻设备市场报告详细介绍了最新发展、贸易法规、进出口分析、生产分析、价值链优化、市场份额、国内和本地市场参与者的影响，分析了新兴收入领域的机会、市场法规的变化、战略市场增长分析、市场规模、类别市场增长、应用领域和主导地位、产品批准、产品发布、地域扩展、市场技术创新。如需了解有关光刻设备市场的更多信息，请联系 Data Bridge Market Research 获取分析师简报，我们的团队将帮助您做出明智的市场决策，实现市场增长。

原材料短缺和运输延误的影响和当前市场状况

Data Bridge Market Research 提供高水平的市场分析，并通过考虑原材料短缺和运输延误的影响和当前市场环境来提供信息。这意味着评估战略可能性、制定有效的行动计划并协助企业做出重要决策。

除了标准报告外，我们还提供从预测的运输延迟、按区域划分的分销商映射、商品分析、生产分析、价格映射趋势、采购、类别绩效分析、供应链风险管理解决方案、高级基准测试等角度对采购层面的深入分析，以及其他采购和战略支持服务。

COVID-19 对光刻设备市场的影响

预计新冠病毒疫情的蔓延将对光刻设备市场产生重大影响。由于此次疫情，政府实施了旅行禁令、工业停工、海外业务和工业单位停业等措施。研究表明，预计到 2021 年第二季度，光刻设备市场的增长将加速。深紫外 (DUV) 行业最有望成为该产品的需求来源。

经济放缓对产品定价和供应的预期影响

当经济活动放缓时，行业开始受到影响。DBMR 提供的市场洞察报告和情报服务考虑了经济衰退对产品定价和可获得性的预测影响。借助这些，我们的客户通常可以领先竞争对手一步，预测他们的销售额和收入，并估算他们的盈亏支出。

近期发展

• 2020 年，台积电( TSMC) 宣布，全球约 50% 的 EUV 光刻系统由其供应和安装。2020 年 11 月，台积电向 ASML 订购了 13 套 EUV 系统。这些系统预计将于 2021 年交付。与此同时，台积电明年的实际需求可能高达 16-17 台 EUV 扫描仪。该公司正在利用其具有 EUV 层的制造技术来提高芯片产量。
• 2020年7月，佳能公司推出了FPA-8000iW，这是佳能第一款主要用于支持后端处理中常见的大型面板制造的半导体光刻系统。

全球光刻设备市场范围

光刻设备市场根据工艺、波长、光源和应用、最终用户进行细分。这些细分市场之间的增长情况将帮助您分析行业中增长缓慢的细分市场，并为用户提供有价值的市场概览和市场洞察，帮助他们做出战略决策，确定核心市场应用。

过程

• 深紫外 [DUV]
• 极紫外 [EUV]
• I 线，氟化氪 [KrF]
• 氟化氩 [ArF] 干燥
• 其他的

波长

• 370 纳米–270 纳米
• 270 纳米–170 纳米
• 70纳米至1纳米

光源

• 汞灯
• 氟激光
• 准分子激光器
• 激光产生的等离子体

 应用

• 前端
• 后端

最终用户

• 集成式设备制造商
• 铸造厂

光刻设备市场区域分析/见解

对光刻设备市场进行了分析，并按国家、工艺、波长、光源和应用以及最终用户提供了市场规模见解和趋势。

光刻设备市场报告涉及的国家包括北美的美国、加拿大和墨西哥，欧洲的德国、法国、英国、荷兰、瑞士、比利时、俄罗斯、意大利、西班牙、土耳其，欧洲其他地区，亚太地区（APAC）的中国、日本、印度、韩国、新加坡、马来西亚、澳大利亚、泰国、印度尼西亚、菲律宾，亚太地区（APAC）的其他地区，中东和非洲（MEA）的沙特阿拉伯、阿联酋、南非、埃及、以色列，中东和非洲（MEA）的其他地区，南美洲的巴西、阿根廷和南美洲其他地区。

北美在市场份额和市场收入方面占据光刻设备市场的主导地位，并将在预测期内继续保持主导地位。这是因为该地区有主要的关键参与者。

由于低廉的制造和劳动力成本，亚太地区预计将成为预测期内发展最快的地区。

The country section of the report also provides individual market impacting factors and changes in market regulation that impact the current and future trends of the market. Data points like down-stream and upstream value chain analysis, technical trends and porter's five forces analysis, case studies are some of the pointers used to forecast the market scenario for individual countries. Also, the presence and availability of global brands and their challenges faced due to large or scarce competition from local and domestic brands, impact of domestic tariffs and trade routes are considered while providing forecast analysis of the country data.   

Competitive Landscape and Photolithography Equipment Market Share Analysis

The photolithography equipment market competitive landscape provides details by competitor. Details included are company overview, company financials, revenue generated, market potential, investment in research and development, new market initiatives, global presence, production sites and facilities, production capacities, company strengths and weaknesses, product launch, product width and breadth, application dominance. The above data points provided are only related to the companies' focus related to photolithography equipment market.

Some of the major players operating in the photolithography equipment market are:

• Samsung (South Korea)
• Zeiss International (Germany)
• ASML (Netherlands)
• Applied Materials, Inc. (U.S.)
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (Taiwan)
• JEOL Ltd (Japan)
• Onto Innovation (U.S.)
• Rudolph Technology & Associates  (U.S.)
• NIL TECHNOLOGY (Denmark)
• Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd (SMEE) (China)
• EV Group (EVG) (Austria)
• Canon Inc., (Japan)
• NuFlare Technology  Inc., (Japan)
• Veeco Instrument Inc,(U.S.)
• SÜSS MicroTec SE (Germany)
• NXP (Netherland)

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