全球 EUV 光刻市场规模、份额和趋势分析报告 – 行业概况和 2031 年预测

EUV 光刻市场分析

由于半导体制造技术的进步，EUV（极紫外）光刻市场正在经历显著增长。最新的方法涉及使用 13.5 nm 波长的光在硅片上创建复杂的图案，从而能够生产更小、更高效的芯片。最近的发展包括改进的掩模技术，提高了图案转移的精度，以及光源技术的进步，提高了吞吐量，同时保持了高分辨率。

市场受到对电子设备更高性能的需求推动，尤其是在生产用于 AI 和 5G 等应用的尖端处理器方面。ASML 等公司处于领先地位，其尖端 EUV 系统被台积电和三星等主要半导体制造商采用。

此外，电动汽车 (EV)市场和物联网 (IoT)的增长正在推动对更先进半导体的需求，进一步推动 EUV 光刻市场的发展。随着制造商扩大生产规模，对 EUV 技术的投资预计将继续增加，从而为未来几年半导体行业的整体增长和效率做出贡献。

EUV 光刻市场规模

2023 年全球 EUV 光刻市场规模价值 93.8 亿美元，预计到 2031 年将达到 406 亿美元，2024 年至 2031 年预测期内的复合年增长率为 20.10%。除了对市场价值、增长率、细分、地理覆盖范围和主要参与者等市场情景的见解外，Data Bridge Market Research 策划的市场报告还包括深入的专家分析、按地理位置表示的公司生产和产能、分销商和合作伙伴的网络布局、详细和更新的价格趋势分析以及供应链和需求的缺口分析。

EUV 光刻市场趋势

“对先进半导体节点的需求不断增加”

EUV（极紫外）光刻市场的增长主要受到对先进半导体节点不断增长的需求的推动，特别是在 5nm 及以下芯片的生产中。随着台积电和三星等科技巨头提高其尖端处理器的生产能力，EUV 光刻已成为实现这些节点所需的高分辨率的关键。例如，台积电与 ASML 合作扩大 EUV 产能凸显了这一趋势，确保它们满足人工智能和 5G 技术等应用日益增长的需求。对小型化和性能的日益关注是推动 EUV 光刻市场向前发展的关键因素。

报告范围和EUV 光刻市场细分    

EUV 光刻市场定义

极紫外 (EUV) 光刻技术是半导体制造中用于生产更小、更强大的微芯片的尖端技术。它采用波长约为 13.5 纳米的光，比传统光刻中使用的波长短得多。这允许在硅片上创建更精细的特征，从而实现更高的晶体管密度和更好的性能。EUV 光刻技术对于推进摩尔定律至关重要，因为它有助于生产尺寸小于 7 纳米的芯片。高成本和技术复杂性对其采用提出了挑战，但它仍然是现代电子产品发展的关键驱动力。

EUV 光刻市场动态

驱动程序

• 汽车行业需求不断增长

汽车行业需求的激增是全球极紫外 (EUV) 光刻市场的重要驱动力。随着汽车制造商不断突破界限，将尖端技术引入汽车，对高度复杂的半导体芯片的需求也日益加剧。EUV 光刻技术独特的生产更小、更复杂芯片设计的能力对于满足这些需求至关重要。它可以创建高分辨率半导体组件，确保汽车系统的性能提高、安全功能增强和效率提高。随着汽车行业继续快速发展技术，EUV 光刻技术在制造下一代智能、高效和高性能汽车方面的作用变得越来越关键。例如，2022 年 3 月，佳能公司推出了其极紫外光刻 (EUV) 系统 FPA-1200NZ2C，专为 5 纳米芯片生产而设计。这项最先进的技术增强了半导体制造能力，能够制造出智能手机和笔记本电脑所必需的更强大、更高效的芯片。借助 EUV 光刻技术，佳能旨在将自己定位于先进半导体制造领域的前沿，满足对尖端电子设备日益增长的需求。

• 数据中心需求不断增长

数据中心需求的不断增长已成为全球极紫外 (EUV) 光刻市场的重要驱动力。数字化、云计算和数据驱动技术的迅猛发展，对更高计算能力和存储容量的需求空前高涨。EUV 光刻技术以其能够实现更精细的芯片设计和先进半导体制造所必需的复杂图案而闻名，在满足这一需求方面发挥着关键作用。随着数据中心不断发展以处理大量数据，人们也需要更强大、更高效的半导体芯片。EUV 光刻技术在生产这些高性能芯片方面具有卓越的能力，可增强处理能力、降低功耗并实现紧凑的设计元素。因此，各种应用对数据中心的依赖日益增加，推动了 EUV 光刻技术的采用，使其成为满足数据中心领域不断增长的需求的关键推动因素。例如，2022 年 1 月，英特尔宣布计划从 2025 年开始采用 ASML 的高 NA Twinscan EXE 扫描仪进行大批量生产。这一举措是英特尔采用 18A (1.8 nm) 生产技术的战略的一部分，该技术代表了下一代极紫外 (EUV) 光刻技术。尽管落后于台积电和三星等竞争对手，但英特尔仍旨在利用这些先进工具重新夺回半导体创新的领导地位。

机会

• 政府投资增加

由于政府加大对半导体制造和研究的投资，全球极紫外 (EUV) 光刻市场正在经历显著增长。支持范围特别延伸到对 EUV 光刻技术的进步的资助，承认其在推进半导体小型化和支持生产用于各种应用的高性能芯片方面的关键作用。这些投资旨在加速 EUV 光刻技术的采用，使制造商能够生产更复杂、密度更高的半导体芯片，推动各个领域的创新，并增强一个国家在全球舞台上的技术竞争力。例如，2022 年 6 月，ASML 与 Mad Science 合作推出了 ASL 青少年学院，这是一项针对 Brainport-Eindhoven 地区 271 所小学的技术教育计划。该计划旨在每年教育大约 60,000 名儿童了解技术及其应用。从 9 月开始，该学院将让学生参与实践学习体验，培养他们对 STEM 领域的兴趣并培养下一代技术创新者。

• 提高先进半导体制造能力

随着半导体制造商努力打造更小、更高效的芯片，EUV 光刻技术带来了巨大的增长机会。随着技术节点缩小到 5nm 及以下，对 EUV 系统的需求不断增加，从而能够生产出能够提高计算能力和能源效率的先进设备。例如，2024 年 1 月，蔡司集团推出了高数值孔径 (NA) 极紫外 (EUV) 光刻系统，代表了半导体制造领域的突破性进步。该创新系统可以生产具有极其精细特征的微芯片，超越当前的 EUV 技术能力。通过提高芯片设计的精度，蔡司旨在支持下一代半导体设备，进一步突破行业技术的界限。

限制/挑战

• 实施成本高

EUV 光刻系统成本高昂，每台超过 1 亿美元，这严重阻碍了市场采用，尤其是小型半导体制造商和代工厂。这一财务障碍源于 EUV 技术所需的复杂设计和工程，这需要先进的材料和精密的组件。此外，供应商数量有限加剧了这种情况，形成了垄断环境，推高了价格。因此，许多小型企业无法投资如此昂贵的设备，导致技术集中在大型公司手中，抑制了半导体行业的竞争和创新。

• EUV 光源供应有限

极紫外 (EUV) 光源的供应有限严重阻碍了 EUV 光刻市场的发展。这些光源对于产生高精度半导体图案化所需的短波长光至关重要。目前，只有 ASML 等少数制造商提供这些先进的光源，导致供应受限。这种稀缺性限制了半导体公司大规模采用 EUV 光刻技术的能力，最终减缓了芯片生产的进步。此外，开发和维护 EUV 光源技术的高成本进一步限制了市场参与者的数量，加剧了供应问题并制约了整体市场增长。

本市场报告详细介绍了最新发展、贸易法规、进出口分析、生产分析、价值链优化、市场份额、国内和本地市场参与者的影响，分析了新兴收入领域的机会、市场法规的变化、战略市场增长分析、市场规模、类别市场增长、应用领域和主导地位、产品批准、产品发布、地域扩展、市场技术创新。如需获取更多市场信息，请联系 Data Bridge Market Research 获取分析师简报，我们的团队将帮助您做出明智的市场决策，实现市场增长。

EUV 光刻市场范围

市场按光源、设备和最终用户进行细分。这些细分市场之间的增长情况将帮助您分析行业中增长微弱的细分市场，并为用户提供有价值的市场概览和市场洞察，帮助他们做出战略决策，确定核心市场应用。

光源

• 激光产生等离子体 (LPP)
• 真空火花
• 气体放电

设备

• 光源
• 光学
• 面具
• 其他的

最终用户

• 集成设备制造商 (IDM)
• 记忆
• 铸造厂
• 其他的

EUV 光刻市场区域分析

对市场进行了分析，并按上述光源、设备和最终用户提供了市场规模洞察和趋势。

市场报告涉及的国家包括北美洲的美国、加拿大、墨西哥、德国、瑞典、波兰、丹麦、意大利、英国、法国、西班牙、荷兰、比利时、瑞士、土耳其、俄罗斯、欧洲的其他地区、日本、中国、印度、韩国、新西兰、越南、澳大利亚、新加坡、马来西亚、泰国、印度尼西亚、菲律宾、亚太地区 (APAC) 的其他地区、巴西、阿根廷、南美洲的其他地区（南美洲的一部分）、阿联酋、沙特阿拉伯、阿曼、卡塔尔、科威特、南非、中东和非洲 (MEA) 的其他地区（中东和非洲 (MEA) 的一部分）。

北美有望主导市场，因为包括 ASML 在内的一些全球领先的半导体设备制造商都位于北美。荷兰公司 ASML 在美国拥有大量业务，是 EUV 光刻设备市场的主要参与者。其在美国的研发活动和生产设施为该地区在 EUV 光刻领域的领先地位做出了贡献。

亚太地区是市场增长最快的地区，因为亚太地区，特别是台湾、韩国和中国等国家，半导体行业经历了显着增长。许多领先的半导体制造商和代工厂都位于该地区。随着对更小、更先进的半导体器件的需求增加，采用 EUV 光刻技术来满足这些需求的需求也在增加。

报告的国家部分还提供了影响市场当前和未来趋势的各个市场影响因素和市场监管变化。下游和上游价值链分析、技术趋势和波特五力分析、案例研究等数据点是用于预测各个国家市场情景的一些指标。此外，在提供国家数据的预测分析时，还考虑了全球品牌的存在和可用性以及它们因来自本地和国内品牌的大量或稀缺竞争而面临的挑战、国内关税和贸易路线的影响。

EUV 光刻市场份额

市场竞争格局按竞争对手提供详细信息。详细信息包括公司概况、公司财务状况、收入、市场潜力、研发投资、新市场计划、全球影响力、生产基地和设施、生产能力、公司优势和劣势、产品发布、产品宽度和广度、应用主导地位。以上提供的数据点仅与公司对市场的关注有关。

在市场上运营的 EUV 光刻市场领导者是：

• 佳能公司 (日本)
• ASML（荷兰）
• Nuflare Technology Inc.（日本）
• 三星（韩国）
• 英特尔公司（美国）
• 尼康公司（日本）
• SUSS Microtec SE（德国）
• 台湾半导体制造股份有限公司 (中国台湾)
• Ultratech Inc.（美国）
• Vistec Electron Beam GmbH（德国）
• 蔡司国际（德国）
• 凸版印刷株式会社（日本）
• NTT先进技术株式会社（日本）
• 东芝印度私人有限公司 (印度)
• 格芯（美国）

EUV 光刻市场的最新发展

• 2022 年 3 月，英特尔宣布在其位于爱尔兰的新工厂开始使用 EUV 光刻机进行大批量生产，该工厂耗资 185 亿美元。这一发展标志着英特尔取得了重大成就，展示了其利用 EUV 技术大规模生产先进半导体的能力。这一里程碑对于英特尔来说至关重要，因为它正努力在半导体市场上重新获得与台积电和三星等竞争对手的竞争优势
• 2022 年 1 月，ASML 和英特尔公司宣布双方长期合作进入新阶段，以推进半导体光刻技术的发展。此次合作的重点是增强制造日益复杂的微芯片所必需的尖端光刻系统的功能。两家公司都希望利用各自的专业知识来加速半导体领域的创新，满足各种应用对更小、更高效的芯片日益增长的需求
• 2021 年 10 月，三星电子开始使用极紫外 (EUV) 光刻技术批量生产 14 纳米 DRAM 芯片。与传统的 Arf 激光光刻相比，这一进步意味着向前迈出了一大步，可以在半导体晶圆上实现更精细的电路设计。通过采用 EUV 技术，三星增强了其制造能力，将自己定位为生产对现代电子设备至关重要的先进内存解决方案的领导者
• 2021 年 3 月，三星电子加大了生产 EUV 扫描仪的力度，增强了其与领先代工厂台积电的竞争优势。这些先进的扫描仪通过减少复杂电路设计所需的光刻步骤数量来简化芯片制造流程。此举凸显了三星致力于采用下一代技术，这对于在竞争激烈的半导体领域保持领先地位至关重要

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