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2023 年 11 月 7 日

全球化学气相沉积(CVD)设备市场:半导体行业投资和增长的加大加速了该市场的需求

全球化学气相沉积 (CVD) 设备市场

由于气相化学反应物的反应,化学气相沉积(CVD)是在表面形成非挥发性固体薄膜。它们主要用于形成耐腐蚀、耐高温、耐磨等不同应用的涂层。 CVD是在约1925°F的高温下在CVD反应器中进行的实验系统。CVD涵盖低压化学气相沉积、激光化学气相沉积、光化学气相沉积、化学气相渗透等不同工艺。它们通常粒度细、纯度高且不渗透。 CVD 中使用的一些常见技术包括原子层 CVD、有机金属 CVD、等离子体增强 CVD、等离子体辅助 CVD 等。

完整报告请访问https://www.databridgemarketresearch.com/zh/reports/global-chemical-vapor-deposition-cvd-equipment-market

导致该市场增长的一些因素:

  • 半导体行业的增长: 由于技术的快速进步,半导体行业有望实现增长。半导体是电子系统的关键组件。由于它们在某些条件下具有导电能力,因此可用于调节电流。在今天的场景中 人工智能 预计将成为半导体行业长期增长周期的引擎。半导体是物联网 (IoT) 新技术的典范。物联网革命不仅增加了对半导体芯片的需求,而且还转向软件和应用程序来获取价值
  • 人口对电子产品的需求不断增加: 电子产品是当今世界各地普遍使用的创新之一。它们的需求量很大,因为它们使我们的生活变得轻松便捷。今天,我们拥有新的电子技术,例如电视、计算机等,这些技术都是由电子产生的。它们还使沟通变得更快、更容易,因为现在我们可以通过手机、视频聊天和互联网与任何人联系。使用所有这些设备,我们可以以非常低的成本轻松、清晰地表达我们的信息。有了一堆信息,人们就可以通过互联网获得更多的知识。借助监控摄像头等安全系统,组织、家庭、银行等的安全性也得到了提高。

全球化学气相沉积 (CVD) 设备市场按 CVD 设备、CVD 服务和 CVD 材料等类别进行细分;涂料、电子、催化等应用;原子层CVD、激光诱导CVD、有机金属CVD、等离子体增强CVD、等离子体辅助CVD、低压CVD等技术;产品为常压化学气相沉积、低压化学气相沉积、密度等离子体化学气相沉积和金属有机化学气相沉积,最终用户为存储器、铸造、IDM 和逻辑

市场上的一些发布和收购如下:

  • 2017年11月,CVD Equipment Corporation宣布收购MesoScribe Technologies Inc.的资产。MesoScribe基于其专利的直写热喷涂(DWTS)软件,专门从事恶劣环境传感器产品和结构集成电子产品的制造。此次收购将为 CVD 提供额外的沉积技术,这将有助于该公司增强其产品组合并巩固其市场地位
  • 2018 年 4 月,欧瑞康巴尔泽斯宣布收购 Sucotech AG。此次收购将有助于该公司增强产品和服务。欧瑞康巴尔泽斯长期以来一直奉行一项政策,即致力于发展和开发其广泛的系统、涂层技术和服务,以提供可靠和个性化的解决方案。通过此次收购,该公司将能够为客户提供更好的服务

“根据 Data Bridge Market Research 的数据,全球化学气相沉积 (CVD) 设备市场在 2019 年至 2026 年的预测期内将实现 7.95% 的复合年增长率”

目前全球 CVD 设备市场的主要竞争对手包括 AIXTRON、Applied Materials, Inc.、ASM International、CVD Equipment Corporation、Hitachi Kokusai Electric Inc、IHI Corporation、Jusung Engineering Co., Ltd.、LAM RESEARCH CORPORATION、Plasma-Therm、Tokyo Electron Limited、ULVAC、Veeco Instruments Inc.、Oxford Instruments 和 Mustang Vacuum Systems 等。

CVD在微电子应用中的需求不断增加,将加速市场对CVD设备的需求。太阳能电池板中高性能薄膜的使用也越来越多,这也将对市场产生积极影响。 CVD 设备正在发生许多技术开发和创新,这也将增强市场。半导体行业投资的增加进一步为该市场创造了新的机遇。


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