Мировой рынок EUV-литографии – тенденции отрасли и прогноз до 2031 года

Глобальный рынок EUV-литографии по источникам света (лазерная плазма (LPP), вакуумные искры, газовый разряд), оборудованию (источник света, оптика, маска и т. д.), конечному пользователю (производитель интегрированных устройств (IDM), памяти, литейному производству и т. д. ) - Тенденции отрасли и прогноз до 2031 года.

Анализ и размер рынка EUV-литографии

Экстремальная УФ-литография относится к технологии литографии следующего поколения, которая использует наименьшую длину волны для создания схем с небольшими элементами и имеет тенденцию получать выходные данные с лучшим разрешением. Эта технология помогает печатать сложные узоры, которые обычно выделяют интегральные схемы на полупроводниковых пластинах. EUV-литография (EUVL) считается одной из ведущих технологий литографии нового поколения (NGL).

Data Bridge Market Research анализирует, что мировой рынок EUV-литографии, который в 2023 году составлял 9 378,50 миллионов долларов США, вероятно, достигнет 40 595,5 миллионов долларов США к 2031 году и, как ожидается, будет расти со среднегодовым темпом роста 20,10% в течение прогнозируемого периода. В дополнение к информации о рыночных сценариях, таких как рыночная стоимость, темпы роста, сегментация, географический охват и основные игроки, рыночные отчеты, подготовленные Data Bridge Market Research, также включают углубленный экспертный анализ, географически представленное производство по компаниям и мощность, схема сети дистрибьюторов и партнеров, подробный и обновленный анализ ценовых тенденций и анализ дефицита цепочки поставок и спроса.

Объем отчета и сегментация рынка

Определение рынка

Литография EUV (экстремальное ультрафиолетовое излучение) определяется как рынок, который охватывает технологии, оборудование и материалы, используемые для конкретного передового процесса производства полупроводников, известного как EUV-литография. EUV-литография — это важнейшая технология, используемая в полупроводниковой промышленности для создания чрезвычайно мелких и точных элементов на полупроводниковых пластинах, что позволяет производить современные микрочипы и интегральные схемы.

Динамика мирового рынка EUV-литографии

Драйверы

• Растущий спрос на центры обработки данных

Растущий спрос на центры обработки данных стал важным фактором развития мирового рынка литографии в крайнем ультрафиолете (EUV). Экспоненциальный рост цифровизации, облачных вычислений и технологий, управляемых данными, приводит к беспрецедентной потребности в более высоких вычислительных мощностях и емкости хранения. EUV-литография, известная своей способностью создавать более тонкие конструкции микросхем и сложные узоры, необходимые для передового производства полупроводников, играет ключевую роль в удовлетворении этого спроса. Поскольку центры обработки данных развиваются и способны обрабатывать огромные объемы данных, параллельно возникает потребность в более мощных и эффективных полупроводниковых чипах. EUV-литография предлагает превосходные возможности в производстве этих высокопроизводительных чипов, обеспечивая повышенную вычислительную мощность, снижение энергопотребления и компактность элементов дизайна. Таким образом, растущая зависимость от центров обработки данных для различных приложений стимулирует внедрение технологии EUV-литографии, позиционируя ее как решающий фактор удовлетворения постоянно растущих потребностей среды, ориентированной на данные.

• Растущий спрос в автомобильной промышленности

Растущий спрос в автомобильной промышленности является важным фактором развития мирового рынка литографии в крайнем ультрафиолете (EUV). Поскольку производители автомобилей расширяют границы внедрения передовых технологий в транспортные средства, потребность в высокотехнологичных полупроводниковых чипах возросла. Уникальная способность EUV-литографии создавать более мелкие и сложные конструкции микросхем имеет решающее значение для удовлетворения этих требований. Это позволяет создавать полупроводниковые компоненты высокого разрешения, обеспечивая улучшенные характеристики, улучшенные функции безопасности и повышенную эффективность автомобильных систем. Поскольку автомобильный сектор продолжает свое быстрое технологическое развитие, роль EUV-литографии в производстве следующего поколения умных, эффективных и высокопроизводительных автомобилей становится все более важной.

• Рост государственных инвестиций

На мировом рынке литографии в крайнем ультрафиолете (EUV) наблюдается значительный рост благодаря росту государственных инвестиций в производство и исследования полупроводников. Поддержка распространяется, в частности, на финансирование достижений EUV-литографии, признавая ее решающую роль в продвижении миниатюризации полупроводников и поддержке производства высокопроизводительных чипов для различных приложений. Эти инвестиции направлены на ускорение внедрения EUV-литографии, позволяя производителям производить более сложные полупроводниковые чипы высокой плотности, стимулируя инновации в различных секторах и укрепляя технологическую конкурентоспособность страны на мировой арене.

Возможность

• Увеличение производства передовых полупроводников

EUV-литография позволяет производить меньшие по размеру и более совершенные полупроводниковые устройства, что приводит к увеличению вычислительной мощности и эффективности. По мере сокращения технологических узлов растет потребность в EUV-литографии, чтобы соответствовать этим требованиям. Это может создать огромные возможности для роста рынка.

Ограничения

• Высокая стоимость внедрения

Системы EUV-литографии невероятно дороги: их стоимость превышает 100 миллионов долларов за единицу. Из-за высоких первоначальных затрат мелким производителям полупроводников или литейным заводам сложно внедрить эту технологию. Высокая стоимость обусловлена, прежде всего, сложностью систем и ограниченным числом поставщиков.

Проблемы

• Ограниченное предложение источников EUV

Источники света EUV являются важными компонентами систем EUV-литографии, генерирующими коротковолновый свет, необходимый для точного формирования рисунка. В настоящее время лишь несколько компаний могут производить источники света EUV, и их поставки ограничены. Это ограниченное предложение может сдерживать общий рост рынка EUV-литографии.

В этом отчете о рынке EUV-литографии представлена ​​подробная информация о последних разработках, торговых правилах, анализе импорта-экспорта, анализе производства, оптимизации цепочки создания стоимости, доле рынка, влиянии внутренних и локализованных игроков рынка, анализируются возможности с точки зрения новых источников дохода, изменений в регулирование рынка, стратегический анализ роста рынка, размер рынка, рост рынка категорий, ниши приложений и доминирование, одобрение продуктов, запуск продуктов, географическое расширение, технологические инновации на рынке. Чтобы получить дополнительную информацию о рынке EUV-литографии, свяжитесь с отделом исследования рынка Data Bridge для получения аналитического обзора, наша команда поможет вам принять обоснованное рыночное решение для достижения роста рынка.

Недавние улучшения

• В марте 2022 года компания Canon Inc. объявила о выпуске системы экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) FPA-1200NZ2C. Эта новая система способна производить полупроводники по 5-нанометровому (нм) процессу, который является самой передовой технологией производства чипов, доступной в настоящее время. EUV-литография необходима для производства самых мощных и эффективных полупроводников, которые используются в различных устройствах, включая смартфоны и ноутбуки.
• В марте 2022 года Intel объявила, что начала крупносерийное производство с использованием машин EUV-литографии на своем заводе стоимостью 18,5 миллиардов долларов США в Ирландии. Это стало важной вехой для Intel, поскольку продемонстрировало способность компании производить передовые чипы с использованием технологии EUV в больших масштабах.

Глобальный рынок EUV-литографии

Рынок EUV-литографии сегментирован по источнику света, оборудованию и конечному пользователю. Рост среди этих сегментов поможет вам проанализировать скудные сегменты роста в отраслях и предоставить пользователям ценный обзор рынка и информацию о рынке, которая поможет им принять стратегические решения для определения основных рыночных приложений.

Источник света

• Лазерная плазма (ЛПП)
• Вакуумные искры
• Газовый разряд

Оборудование

• Источник света
• Оптика
• Маска
• Другие

Конечный пользователь

• Производитель интегрированных устройств (IDM)
• Память
• Литейный завод
• Другие

Анализ региона / аналитика мирового рынка EUV-литографии

Анализируется рынок EUV-литографии, а информация о размере рынка и тенденциях предоставляется по странам, источникам света, оборудованию и конечным пользователям, как указано выше.

В отчет о рынке EUV-литографии включены следующие страны: США, Канада, Мексика, Бразилия, Аргентина, остальные страны Южной Америки, Германия, Италия, Великобритания, Франция, Испания, Нидерланды, Бельгия, Швейцария, Турция, Россия, остальная Европа, Япония. , Китай, Индия, Южная Корея, Австралия, Сингапур, Малайзия, Таиланд, Индонезия, Филиппины, остальные страны Азиатско-Тихоокеанского региона, Саудовская Аравия, ОАЭ, Южная Африка, Египет, Израиль и остальные страны Ближнего Востока и Африки.

Ожидается, что Северная Америка будет доминировать на рынке, поскольку некоторые из ведущих мировых производителей полупроводникового оборудования, включая ASML, базируются в Северной Америке. ASML, голландская компания, имеет значительное присутствие в США и является ключевым игроком на рынке оборудования для EUV-литографии. Ее научно-исследовательская деятельность и производственные мощности в США способствуют лидерству региона в области EUV-литографии.

Азиатско-Тихоокеанский регион является самым быстрорастущим регионом на рынке, поскольку в Азиатско-Тихоокеанском регионе, особенно в таких странах, как Тайвань, Южная Корея и Китай, наблюдается значительный рост полупроводниковой промышленности. Многие ведущие производители полупроводников и литейные заводы базируются в этом регионе. По мере роста спроса на меньшие по размеру и более совершенные полупроводниковые устройства для удовлетворения этих потребностей растет и внедрение технологии EUV-литографии.

В разделе отчета, посвященном странам, также представлены отдельные факторы, влияющие на рынок, и изменения в регулировании рынка внутри страны, которые влияют на текущие и будущие тенденции рынка. Такие данные, как анализ цепочки создания стоимости нисходящей и восходящей цепочки, технические тенденции и анализ пяти сил Портера, тематические исследования, являются некоторыми из указателей, используемых для прогнозирования рыночного сценария для отдельных стран. Кроме того, при предоставлении прогнозного анализа данных по региону учитываются наличие и доступность мировых брендов, а также проблемы, с которыми сталкиваются из-за большой или недостаточной конкуренции со стороны местных и отечественных брендов, влияние внутренних тарифов и торговых маршрутов.

Конкурентная среда и анализ доли мирового рынка EUV-литографии

Конкурентная среда на рынке EUV-литографии предоставляет подробную информацию о конкурентах. Подробная информация включает обзор компании, финансовые показатели компании, полученный доход, рыночный потенциал, инвестиции в исследования и разработки, новые рыночные инициативы, глобальное присутствие, производственные площадки и объекты, производственные мощности, сильные и слабые стороны компании, запуск продукта, ширину и широту продукта, а также доминирование приложений. Приведенные выше данные относятся только к ориентации компаний на рынке EUV-литографии.

Некоторые из основных игроков, работающих на рынке EUV-литографии:

• Кэннон Инк. (Япония)
• ASML (Нидерланды)
• Nuflare Technology Inc. (Япония)
• САМСУНГ (Южная Корея)
• Корпорация Intel (США)
• Корпорация Nikon (Япония)
• SUSS Microtec SE (Германия)
• Тайваньская компания по производству полупроводников (Тайвань)
• Ультратек Инк. (США)
• Vistec Electron Beam GmbH (Германия)
• Цейсс Интернешнл (Германия)
• Toppan Printing Co. Ltd. (Япония)
• NTT Advanced Technology Corporation (Япония)
• Toshiba India Pvt. Лтд. (Индия)
• Глобальные литейные заводы (США)