Отчет об анализе размера, доли и тенденций мирового рынка EUV-литографии — обзор отрасли и прогноз до 2031 года

Анализ рынка EUV-литографии

Рынок литографии EUV (Extreme Ultraviolet) переживает значительный рост благодаря достижениям в технологиях производства полупроводников. Новейший метод предполагает использование света с длиной волны 13,5 нм для создания сложных узоров на кремниевых пластинах, что позволяет производить более мелкие и эффективные чипы. Последние разработки включают улучшенные технологии масок, которые повышают точность переноса узоров, и достижения в технологиях источников света, которые повышают пропускную способность при сохранении высокого разрешения.

Рынок обусловлен спросом на более высокую производительность электронных устройств, особенно в производстве передовых процессоров для таких приложений, как ИИ и 5G. Такие компании, как ASML, лидируют, а их передовые системы EUV внедряются крупнейшими производителями полупроводников, включая TSMC и Samsung.

Более того, рост рынка электромобилей (EV) и Интернета вещей (IoT) подталкивает спрос на более продвинутые полупроводники, еще больше подпитывая рынок EUV-литографии. По мере того, как производители наращивают производство, ожидается, что инвестиции в EUV-технологию продолжат расти, способствуя общему росту и эффективности полупроводниковой промышленности в ближайшие годы.

Размер рынка EUV-литографии

Объем мирового рынка EUV-литографии оценивался в 9,38 млрд долларов США в 2023 году и, по прогнозам, достигнет 40,60 млрд долларов США к 2031 году со среднегодовым темпом роста 20,10% в прогнозируемый период с 2024 по 2031 год. Помимо аналитических данных о рыночных сценариях, таких как рыночная стоимость, темпы роста, сегментация, географический охват и основные игроки, рыночные отчеты, подготовленные Data Bridge Market Research, также включают в себя углубленный экспертный анализ, географически представленное производство и мощности компаний, сетевые схемы дистрибьюторов и партнеров, подробный и обновленный анализ ценовых тенденций и анализ дефицита цепочки поставок и спроса.

Тенденции рынка EUV-литографии

«Растущий спрос на усовершенствованные полупроводниковые узлы»

Рост рынка литографии EUV (Extreme Ultraviolet) в значительной степени обусловлен растущим спросом на передовые полупроводниковые узлы, особенно в производстве чипов 5 нм и ниже. Поскольку такие технологические гиганты, как TSMC и Samsung, наращивают свои производственные мощности для передовых процессоров, литография EUV стала необходимой для достижения высокого разрешения, необходимого для этих узлов. Например, сотрудничество TSMC с ASML по расширению мощностей EUV подчеркивает эту тенденцию, гарантируя, что они соответствуют растущим требованиям таких приложений, как искусственный интеллект и технология 5G. Этот растущий акцент на миниатюризации и производительности является ключевым фактором, продвигающим рынок литографии EUV вперед.

Область применения отчета и сегментация рынка EUV-литографии    

Определение рынка EUV-литографии

Литография в экстремальном ультрафиолете (EUV) — это передовая технология, используемая в производстве полупроводников для производства более мелких и мощных микрочипов. Она использует свет с длиной волны около 13,5 нанометров, что значительно короче, чем та, которая используется в традиционной фотолитографии. Это позволяет создавать более тонкие элементы на кремниевых пластинах, обеспечивая более высокую плотность транзисторов и улучшенную производительность. EUV-литография имеет решающее значение для продвижения закона Мура, поскольку она облегчает производство чипов с размерами менее 7 нанометров. Высокая стоимость и техническая сложность поставили под сомнение ее принятие, но она остается ключевым фактором в развитии современной электроники.

Динамика рынка EUV-литографии

Драйверы

• Растущий спрос в автомобильной промышленности

Растущий спрос в автомобильной промышленности является существенным драйвером для мирового рынка литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Поскольку производители автомобилей расширяют границы, внедряя передовые технологии в транспортные средства, потребность в высокотехнологичных полупроводниковых чипах усилилась. Уникальная способность EUV-литографии производить более мелкие и сложные конструкции чипов имеет решающее значение для удовлетворения этих потребностей. Она позволяет создавать полупроводниковые компоненты высокого разрешения, обеспечивая улучшенную производительность, улучшенные функции безопасности и повышенную эффективность в автомобильных системах. Поскольку автомобильный сектор продолжает свою быструю технологическую эволюцию, роль EUV-литографии в производстве следующего поколения интеллектуальных, эффективных и высокопроизводительных автомобилей становится все более важной. Например, в марте 2022 года Canon Inc. представила свою систему литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV), FPA-1200NZ2C, предназначенную для производства чипов по 5-нанометровой технологии. Эта передовая технология улучшает производство полупроводников, позволяя создавать более мощные и эффективные чипы, необходимые для смартфонов и ноутбуков. Используя технологию EUV-литографии, компания Canon стремится занять лидирующие позиции в области производства передовых полупроводников, удовлетворяя растущий спрос на передовые электронные устройства.

• Растущий спрос на центры обработки данных

Растущий спрос на центры обработки данных стал существенным драйвером для мирового рынка литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Экспоненциальный рост цифровизации, облачных вычислений и технологий, управляемых данными, обусловливает беспрецедентную потребность в более высокой вычислительной мощности и емкости хранения. EUV-литография, известная своей способностью достигать более тонких конструкций чипов и сложных узоров, необходимых для передового производства полупроводников, играет ключевую роль в удовлетворении этого спроса. Поскольку центры обработки данных развиваются для обработки огромных объемов данных, параллельно возникает потребность в более мощных и эффективных полупроводниковых чипах. EUV-литография предлагает превосходные возможности в производстве этих высокопроизводительных чипов, обеспечивая повышенную вычислительную мощность, сниженное энергопотребление и компактные элементы дизайна. Таким образом, растущая зависимость от центров обработки данных для различных приложений стимулирует внедрение технологии EUV-литографии, позиционируя ее как важнейший фактор удовлетворения постоянно растущих потребностей ландшафта, ориентированного на данные. Например, в январе 2022 года Intel объявила о планах внедрения сканеров High-NA Twinscan EXE от ASML для крупносерийного производства, начиная с 2025 года. Эта инициатива является частью стратегии Intel по внедрению своей производственной технологии 18A (1,8 нм), которая представляет собой следующее поколение технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Несмотря на отставание таких конкурентов, как TSMC и Samsung, Intel стремится использовать эти передовые инструменты для восстановления лидерства в области инноваций в области полупроводников.

Возможности

• Рост государственных инвестиций

Глобальный рынок литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) переживает значительный подъем из-за растущих государственных инвестиций в производство и исследования полупроводников. Поддержка распространяется на финансирование достижений EUV-литографии, в частности, признавая ее решающую роль в продвижении миниатюризации полупроводников и поддерживая производство высокопроизводительных чипов для различных применений. Эти инвестиции направлены на ускорение внедрения EUV-литографии, позволяя производителям производить более сложные и высокоплотные полупроводниковые чипы, подпитывая инновации в различных секторах и укрепляя технологическую конкурентоспособность страны на мировой арене. Например, в июне 2022 года ASML запустила ASL Junior Academy в партнерстве с Mad Science, инициативу в области технологического образования, нацеленную на 271 начальную школу в регионе Брэйнпорт-Эйндховен. Цель этой программы — ежегодно обучать около 60 000 детей технологиям и их применению. Начиная с сентября, академия будет вовлекать студентов в практический процесс обучения, поощряя интерес к областям STEM и воспитывая новое поколение новаторов в сфере технологий.

• Расширение производства передовых полупроводников

EUV-литография открывает значительные возможности для роста, поскольку производители полупроводников стремятся к созданию более мелких и эффективных чипов. По мере того, как технологические узлы сокращаются до 5 нм и ниже, спрос на EUV-системы увеличивается, что позволяет производить передовые устройства, повышающие вычислительную мощность и энергоэффективность. Например, в январе 2024 года ZEISS Group запустила свою систему экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии с высокой числовой апертурой (High-NA (Numerical Aperture)), представляющую собой революционное достижение в производстве полупроводников. Эта инновационная система позволяет производить микрочипы с исключительно тонкими характеристиками, превосходя текущие возможности технологии EUV. Повышая точность проектирования чипов, ZEISS стремится поддерживать следующее поколение полупроводниковых устройств, еще больше расширяя границы технологий в отрасли.

Ограничения/Проблемы

• Высокая стоимость внедрения

Высокая стоимость систем EUV-литографии, превышающая 100 миллионов долларов США за единицу, существенно затрудняет их внедрение на рынке, особенно среди небольших производителей полупроводников и литейных заводов. Этот финансовый барьер возникает из-за сложной конструкции и проектирования, необходимых для технологии EUV, что требует использования современных материалов и прецизионных компонентов. Кроме того, ограниченное количество поставщиков усугубляет ситуацию, создавая монополистическую среду, которая приводит к росту цен. В результате многие мелкие игроки не могут инвестировать в такое дорогостоящее оборудование, что приводит к концентрации технологий среди крупных фирм и подавлению конкуренции и инноваций в полупроводниковой промышленности.

• Ограниченная поставка источников EUV

Ограниченное предложение источников света экстремального ультрафиолетового (EUV) диапазона значительно затрудняет рынок EUV-литографии. Эти источники имеют решающее значение для генерации коротковолнового света, необходимого для высокоточного формирования полупроводниковых структур. В настоящее время только несколько производителей, таких как ASML, поставляют эти передовые источники света, что приводит к ограничениям поставок. Этот дефицит ограничивает возможности полупроводниковых компаний по внедрению EUV-литографии в масштабах, в конечном итоге замедляя прогресс в производстве чипов. Кроме того, высокая стоимость разработки и обслуживания технологии источников EUV-света еще больше ограничивает количество игроков на рынке, усугубляя проблемы с поставками и сдерживая общий рост рынка.

В этом отчете о рынке содержатся сведения о последних новых разработках, правилах торговли, анализе импорта-экспорта, анализе производства, оптимизации цепочки создания стоимости, доле рынка, влиянии внутренних и локальных игроков рынка, анализируются возможности с точки зрения новых источников дохода, изменений в правилах рынка, анализ стратегического роста рынка, размер рынка, рост рынка категорий, ниши приложений и доминирование, одобрения продуктов, запуски продуктов, географические расширения, технологические инновации на рынке. Чтобы получить больше информации о рынке, свяжитесь с Data Bridge Market Research для получения аналитического обзора, наша команда поможет вам принять обоснованное рыночное решение для достижения роста рынка.

Объем рынка EUV-литографии

Рынок сегментирован на основе источника света, оборудования и конечного пользователя. Рост среди этих сегментов поможет вам проанализировать сегменты с незначительным ростом в отраслях и предоставить пользователям ценный обзор рынка и рыночные идеи, которые помогут им принимать стратегические решения для определения основных рыночных приложений.

Источник света

• Плазма, полученная лазером (LPP)
• Вакуумные искры
• Газовый разряд

Оборудование

• Источник света
• Оптика
• Маска
• Другие

Конечный пользователь

• Производитель интегрированных устройств (IDM)
• Память
• Литейный завод
• Другие

Региональный анализ рынка EUV-литографии

Проводится анализ рынка и предоставляются сведения о его размерах и тенденциях по источникам света, оборудованию и конечным пользователям, как указано выше.

В отчете о рынке рассматриваются следующие страны: США, Канада, Мексика в Северной Америке, Германия, Швеция, Польша, Дания, Италия, Великобритания, Франция, Испания, Нидерланды, Бельгия, Швейцария, Турция, Россия, остальные страны Европы в Европе, Япония, Китай, Индия, Южная Корея, Новая Зеландия, Вьетнам, Австралия, Сингапур, Малайзия, Таиланд, Индонезия, Филиппины, остальные страны Азиатско-Тихоокеанского региона (APAC) в Азиатско-Тихоокеанском регионе (APAC), Бразилия, Аргентина, остальные страны Южной Америки как часть Южной Америки, ОАЭ, Саудовская Аравия, Оман, Катар, Кувейт, Южная Африка, остальные страны Ближнего Востока и Африки (MEA) как часть Ближнего Востока и Африки (MEA).

Ожидается, что Северная Америка будет доминировать на рынке, поскольку некоторые из ведущих мировых производителей полупроводникового оборудования, включая ASML, базируются в Северной Америке. ASML, голландская компания, имеет существенное присутствие в США и является ключевым игроком на рынке оборудования для EUV-литографии. Ее научно-исследовательская деятельность и производственные мощности в США способствуют лидерству региона в EUV-литографии.

Азиатско-Тихоокеанский регион является самым быстрорастущим регионом на рынке, поскольку Азиатско-Тихоокеанский регион, особенно такие страны, как Тайвань, Южная Корея и Китай, испытали значительный рост в полупроводниковой промышленности. Многие ведущие производители полупроводников и литейные заводы базируются в этом регионе. Поскольку спрос на более мелкие, более совершенные полупроводниковые устройства увеличился, также возросло и внедрение технологии EUV-литографии для удовлетворения этого спроса.

Раздел отчета по странам также содержит отдельные факторы, влияющие на рынок, и изменения в регулировании рынка, которые влияют на текущие и будущие тенденции рынка. Такие данные, как анализ цепочки создания стоимости сверху и снизу, технические тенденции и анализ пяти сил Портера, тематические исследования, являются некоторыми из указателей, используемых для прогнозирования рыночного сценария для отдельных стран. Кроме того, при предоставлении прогнозного анализа данных по странам учитываются наличие и доступность глобальных брендов и их проблемы из-за большой или малой конкуренции со стороны местных и отечественных брендов, влияние внутренних тарифов и торговых путей.

Доля рынка EUV-литографии

Конкурентная среда рынка содержит сведения о конкурентах. Включены сведения о компании, ее финансах, полученном доходе, рыночном потенциале, инвестициях в исследования и разработки, новых рыночных инициативах, глобальном присутствии, производственных площадках и объектах, производственных мощностях, сильных и слабых сторонах компании, запуске продукта, широте и широте продукта, доминировании приложений. Приведенные выше данные касаются только фокуса компаний на рынке.

Лидерами рынка EUV-литографии, работающими на рынке, являются:

• Cannon Inc. (Япония)
• ASML (Нидерланды)
• Nuflare Technology Inc. (Япония)
• SAMSUNG (Южная Корея)
• Корпорация Intel (США)
• Корпорация Nikon (Япония)
• SUSS Microtec SE (Германия)
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (Тайвань)
• Ultratech Inc. (США)
• Vistec Electron Beam GmbH (Германия)
• Zeiss International (Германия)
• Toppan Printing Co. Ltd. (Япония)
• Корпорация передовых технологий NTT (Япония)
• Toshiba India Pvt. Ltd. (Индия)
• Global Foundries (США)

Последние разработки на рынке EUV-литографии

• В марте 2022 года Intel объявила о начале крупносерийного производства с использованием машин EUV-литографии на своем новом предприятии в Ирландии стоимостью 18,5 млрд долларов. Это событие знаменует собой значительное достижение для Intel, демонстрирующее ее способность производить передовые полупроводники в масштабах с использованием технологии EUV. Эта веха имеет решающее значение для Intel, поскольку она стремится восстановить свое конкурентное преимущество на рынке полупроводников по сравнению с такими конкурентами, как TSMC и Samsung.
• В январе 2022 года ASML и Intel Corporation объявили о новом этапе своего давнего партнерства по продвижению технологии полупроводниковой литографии. Это сотрудничество направлено на расширение возможностей передовых литографических систем, необходимых для производства все более сложных микросхем. Обе компании стремятся использовать свой опыт для ускорения инноваций в области полупроводников, удовлетворяя растущий спрос на более мелкие и эффективные микросхемы для различных приложений.
• В октябре 2021 года Samsung Electronics начала массовое производство 14-нанометровых чипов DRAM с использованием технологии литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV). Это достижение знаменует собой большой шаг вперед по сравнению с традиционной литографией Arf-лазера, позволяя создавать более тонкие схемы на полупроводниковых пластинах. Внедряя технологию EUV, Samsung расширяет свои производственные возможности, позиционируя себя как лидера в производстве передовых решений памяти, имеющих решающее значение для современных электронных устройств.
• В марте 2021 года Samsung Electronics активизировала свои усилия по производству сканеров EUV, усилив свое конкурентное преимущество по сравнению с ведущим литейным заводом TSMC. Эти передовые сканеры оптимизируют процесс изготовления чипов, сокращая количество этапов фотолитографии, необходимых для сложных схемных конструкций. Этот шаг подчеркивает приверженность Samsung внедрению технологий следующего поколения, которые имеют решающее значение для поддержания темпа в высококонкурентной полупроводниковой отрасли

SKU-70354