Relatório global de análise do tamanho, quota e tendências do mercado de litografia EUV – Visão geral do setor e previsão para 2031

Análise de mercado de litografia EUV

O mercado da litografia EUV (Ultravioleta Extremo) está a registar um crescimento significativo devido aos avanços nas tecnologias de fabrico de semicondutores. O método mais recente envolve a utilização de luz com um comprimento de onda de 13,5 nm para criar padrões complexos em pastilhas de silício, permitindo a produção de chips mais pequenos e mais eficientes. Os desenvolvimentos recentes incluem tecnologias de máscara melhoradas, que melhoram a precisão das transferências de padrões, e avanços nas tecnologias de fontes de luz que aumentam o rendimento, mantendo a alta resolução.

O mercado é movido pela procura de maior desempenho em dispositivos eletrónicos, principalmente na produção de processadores de ponta para aplicações como IA e 5G. Empresas como a ASML estão na vanguarda, com os seus sistemas EUV de última geração a serem adotados pelos principais fabricantes de semicondutores, incluindo a TSMC e a Samsung.

Além disso, o crescimento do mercado dos veículos eléctricos (VE) e da Internet das Coisas (IoT) estão a impulsionar a procura de semicondutores mais avançados, alimentando ainda mais o mercado da litografia EUV. À medida que os fabricantes aumentam a produção, prevê-se que o investimento na tecnologia EUV continue a aumentar, contribuindo para o crescimento global e para a eficiência da indústria de semicondutores nos próximos anos.

Tamanho do mercado de litografia EUV

O tamanho global do mercado de litografia EUV foi avaliado em 9,38 mil milhões de dólares em 2023 e deverá atingir 40,60 mil milhões de dólares até 2031, com um CAGR de 20,10% durante o período de previsão de 2024 a 2031. Além dos insights sobre cenários de mercado como o valor de mercado, taxa de crescimento, segmentação, cobertura geográfica e grandes players, os relatórios de mercado com curadoria da Data Bridge Market Research incluem também análises especializadas aprofundadas, produção e capacidade da empresa representada geograficamente, layouts de rede de distribuidores e parceiros, detalhes e análise atualizada das tendências de preços e análise do défice da cadeia de abastecimento e da procura.

Tendências do mercado de litografia EUV

“Aumento da procura por nós semicondutores avançados”

O crescimento do mercado de litografia EUV (Ultravioleta Extrema) é significativamente impulsionado pela crescente procura de nós semicondutores avançados, particularmente na produção de chips de 5 nm e inferiores. À medida que gigantes da tecnologia como a TSMC e a Samsung aumentam as suas capacidades de produção de processadores de última geração, a litografia EUV tornou-se essencial para alcançar a alta resolução necessária para estes nós. Por exemplo, a colaboração da TSMC com a ASML para expandir a capacidade EUV destaca esta tendência, garantindo que estas cumprem os crescentes requisitos de aplicações como a inteligência artificial e a tecnologia 5G. Este crescente foco na miniaturização e no desempenho é um fator chave que impulsiona o mercado da litografia EUV.

Âmbito do relatório e segmentação do mercado de litografia EUV    

Definição do mercado de litografia EUV

A litografia Ultravioleta Extrema (EUV) é uma tecnologia de ponta utilizada no fabrico de semicondutores para produzir microchips mais pequenos e mais potentes. Emprega luz com um comprimento de onda de aproximadamente 13,5 nanómetros, significativamente mais curto do que o utilizado na fotolitografia tradicional. Isto permite a criação de recursos mais refinados nos wafers de silício, permitindo uma maior densidade de transístores e um melhor desempenho. A litografia EUV é crucial para o avanço da Lei de Moore, uma vez que facilita a produção de chips com dimensões inferiores a 7 nanómetros. Os elevados custos e as complexidades técnicas desafiaram a sua adopção, mas continua a ser um factor-chave na evolução da electrónica moderna.

Dinâmica do mercado de litografia EUV

Motoristas

• Procura crescente na indústria automóvel

A crescente procura na indústria automóvel destaca-se como um impulsionador significativo para o mercado global de litografia ultravioleta extrema (EUV). À medida que os fabricantes automóveis ultrapassam os limites para introduzir tecnologias de ponta nos veículos, a necessidade de chips semicondutores altamente sofisticados intensificou-se. A capacidade única da litografia EUV de produzir designs de chips mais pequenos e complexos é fundamental para satisfazer estas exigências. Permite a criação de componentes semicondutores de alta resolução, garantindo um melhor desempenho, características de segurança melhoradas e maior eficiência nos sistemas automóveis. À medida que o setor automóvel continua a sua rápida evolução tecnológica, o papel da litografia EUV no fabrico da próxima geração de veículos inteligentes, eficientes e de alto desempenho torna-se cada vez mais fundamental. Por exemplo, em março de 2022, a Canon Inc. revelou o seu sistema de Litografia Ultravioleta Extrema (EUV), o FPA-1200NZ2C, concebido para a produção de chips de 5 nanómetros. Esta tecnologia de ponta melhora o fabrico de semicondutores, permitindo a criação de chips mais potentes e eficientes, essenciais para smartphones e computadores portáteis. Com a litografia EUV, a Canon pretende posicionar-se na vanguarda do fabrico avançado de semicondutores, satisfazendo a crescente procura de dispositivos eletrónicos de última geração.

• Aumento da procura por data centers

A crescente procura por data centers emergiu como um impulsionador significativo para o mercado global de litografia ultravioleta extrema (EUV). Com o crescimento exponencial da digitalização, da computação em nuvem e das tecnologias baseadas em dados, existe uma necessidade sem precedentes de maior poder computacional e capacidade de armazenamento. A litografia EUV, conhecida pela sua capacidade de obter designs de chips mais finos e padrões complexos essenciais para o fabrico avançado de semicondutores, desempenha um papel fundamental no atendimento desta procura. À medida que os centros de dados evoluem para lidar com grandes quantidades de dados, existe uma necessidade paralela de chips semicondutores mais potentes e eficientes. A litografia EUV oferece características superiores na produção destes chips de alto desempenho, permitindo um maior poder de processamento, um consumo de energia reduzido e elementos de design compactos. A crescente dependência de data centers para diversas aplicações está, portanto, a impulsionar a adoção da tecnologia de litografia EUV, posicionando-a como um facilitador crucial para satisfazer as exigências cada vez maiores do panorama centrado em dados. Por exemplo, em janeiro de 2022, a Intel anunciou planos para implementar os scanners EXE High-NA Twinscan da ASML para fabrico de grande volume a partir de 2025. Esta iniciativa faz parte da estratégia da Intel de adotar a sua técnica de produção 18A(1, 8 nm), que representa a próxima geração de tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV). Apesar de estar atrás de concorrentes como a TSMC e a Samsung, a Intel pretende aproveitar estas ferramentas avançadas para recuperar a liderança na inovação de semicondutores.

Oportunidades

• Aumento dos investimentos governamentais

O mercado global de litografia ultravioleta extrema (EUV) está a testemunhar um impulso significativo devido ao aumento dos investimentos governamentais no fabrico e investigação de semicondutores. O apoio estende-se especificamente ao financiamento para avanços na litografia EUV, reconhecendo o seu papel crucial no avanço da miniaturização de semicondutores e apoiando a produção de chips de alto desempenho para diversas aplicações. Estes investimentos visam acelerar a adoção da litografia EUV, permitindo aos fabricantes produzir chips semicondutores mais sofisticados e de alta densidade, alimentando a inovação em vários setores e fortalecendo a competitividade tecnológica de uma nação no panorama global. Por exemplo, em junho de 2022, a ASML lançou a ASL Junior Academy em parceria com a Mad Science, uma iniciativa de educação tecnológica dirigida a 271 escolas primárias da região de Brainport-Eindhoven. Este programa visa educar anualmente aproximadamente 60.000 crianças sobre a tecnologia e as suas aplicações. A partir de setembro, a academia envolverá os alunos em experiências de aprendizagem prática, fomentando o interesse pelas áreas STEM e nutrindo a próxima geração de inovadores tecnológicos.

• Aumento da fabricação avançada de semicondutores

A litografia EUV apresenta oportunidades de crescimento significativas à medida que os fabricantes de semicondutores procuram chips mais pequenos e mais eficientes. À medida que os nós tecnológicos diminuem para 5 nm ou menos, a procura por sistemas EUV aumenta, permitindo a produção de dispositivos avançados que melhoram o poder computacional e a eficiência energética. Por exemplo, em janeiro de 2024, o Grupo ZEISS lançou o seu sistema de litografia High-NA (Numerical Opening) Extreme Ultraviolet (EUV), representando um avanço inovador no fabrico de semicondutores. Este sistema inovador permite a produção de microchips com características excecionalmente finas, superando as atuais capacidades da tecnologia EUV. Ao aumentar a precisão no design de chips, a ZEISS pretende apoiar a próxima geração de dispositivos semicondutores, expandindo ainda mais os limites da tecnologia na indústria.

Restrições/Desafios

• Elevado custo de implementação

O elevado custo dos sistemas de litografia EUV, superior a 100 milhões de dólares por unidade, dificulta significativamente a sua adoção no mercado, especialmente entre os pequenos fabricantes e fundições de semicondutores. Esta barreira financeira surge do intrincado design e engenharia necessários para a tecnologia EUV, que necessita de materiais avançados e componentes de precisão. Além disso, o número limitado de fornecedores agrava a situação, criando um ambiente monopolista que aumenta os preços. Como resultado, muitos intervenientes mais pequenos não conseguem investir em equipamentos tão dispendiosos, levando a uma concentração de tecnologia entre empresas de maior dimensão e sufocando a concorrência e a inovação na indústria de semicondutores.

• Fornecimento limitado de fontes EUV

A oferta limitada de fontes de luz ultravioleta extrema (EUV) prejudica significativamente o mercado da litografia EUV. Estas fontes são cruciais para gerar a luz de comprimento de onda curto necessária para a padronização de semicondutores de alta precisão. Atualmente, apenas alguns fabricantes, como a ASML, fornecem estas fontes de luz avançadas, levando a restrições de fornecimento. Esta escassez restringe a capacidade das empresas de semicondutores de adotarem a litografia EUV em escala, atrasando, em última análise, os avanços na produção de chips. Além disso, o elevado custo de desenvolvimento e manutenção da tecnologia de fontes de luz EUV limita ainda mais o número de intervenientes no mercado, agravando os problemas de abastecimento e restringindo o crescimento global do mercado.

Este relatório de mercado fornece detalhes dos novos desenvolvimentos recentes, regulamentos comerciais, análise de importação-exportação, análise de produção, otimização da cadeia de valor, quota de mercado, impacto dos participantes do mercado doméstico e localizado, analisa as oportunidades em termos de bolsas de receitas emergentes, alterações nas regulamentações do mercado, análise estratégica do crescimento do mercado, tamanho do mercado, crescimento do mercado da categoria, nichos de aplicação e domínio, aprovações de produtos, lançamentos de produtos, expansões geográficas, inovações tecnológicas no mercado. Para mais informações sobre o mercado, contacte a Data Bridge Market Research para obter um resumo do analista, a nossa equipa irá ajudá-lo a tomar uma decisão de mercado informada para alcançar o crescimento do mercado.

Âmbito do mercado de litografia EUV

O mercado está segmentado com base na fonte de luz, equipamento e utilizador final. O crescimento entre estes segmentos irá ajudá-lo a analisar os escassos segmentos de crescimento nas indústrias e fornecer aos utilizadores uma valiosa visão geral do mercado e insights de mercado para os ajudar a tomar decisões estratégicas para identificar as principais aplicações do mercado.

Fonte de luz

• Plasmas Produzidos a Laser (LPP)
• Faíscas de Vácuo
• Descarga de Gás

Equipamento

• Fonte de luz
• Óptica
• Máscara
• Outros

Utilizador final

• Fabricante de dispositivos integrados (IDM)
• Memória
• Fundição
• Outros

Análise regional do mercado de litografia EUV

O mercado é analisado e os insights e tendências do tamanho do mercado são fornecidos pela fonte de luz, equipamento e utilizador final como mencionado acima.

Os países abrangidos no relatório de mercado são os EUA, Canadá, México na América do Norte, Alemanha, Suécia, Polónia, Dinamarca, Itália, Reino Unido, França, Espanha, Países Baixos, Bélgica, Suíça, Turquia, Rússia, Resto da Europa na Europa , Japão , China, Índia, Coreia do Sul, Nova Zelândia, Vietname, Austrália, Singapura, Malásia, Tailândia, Indonésia, Filipinas, Resto da Ásia-Pacífico (APAC) na Ásia-Pacífico (APAC), Brasil, Argentina, Resto da América do Sul como uma parte da América do Sul, Emirados Árabes Unidos, Arábia Saudita, Omã, Qatar, Kuwait, África do Sul, Resto do Médio Oriente e África (MEA) como parte do Médio Oriente e África (MEA).

Espera-se que a América do Norte domine o mercado porque alguns dos principais fabricantes mundiais de equipamentos semicondutores, incluindo a ASML, estão sediados na América do Norte. A ASML, uma empresa holandesa, tem uma presença substancial nos EUA e é um player importante no mercado de equipamentos de litografia EUV. As suas atividades de investigação e desenvolvimento e instalações de produção nos EUA contribuem para a liderança da região na litografia EUV.

A Ásia-Pacífico é a região que mais cresce no mercado devido à região Ásia-Pacífico, particularmente países como Taiwan, Coreia do Sul e China, que registou um crescimento significativo na indústria de semicondutores. Muitos dos principais fabricantes e fundições de semicondutores estão sediados nesta região. À medida que a procura por dispositivos semicondutores mais pequenos e mais avançados aumentou, também aumentou a adoção da tecnologia de litografia EUV para satisfazer estas exigências.

A secção do país do relatório também fornece fatores individuais de impacto no mercado e alterações na regulamentação do mercado que impactam as tendências atuais e futuras do mercado. Pontos de dados como a análise da cadeia de valor a jusante e a montante, tendências técnicas e análise das cinco forças de Porter, estudos de caso são alguns dos indicadores utilizados para prever o cenário de mercado para países individuais. Além disso, são considerados a presença e disponibilidade de marcas globais e os desafios enfrentados devido à grande ou escassa concorrência de marcas locais e nacionais, o impacto das tarifas nacionais e das rotas comerciais, ao mesmo tempo que se fornece uma análise de previsão dos dados do país.

Participação no mercado de litografia EUV

O cenário competitivo do mercado fornece detalhes por concorrente. Os detalhes incluídos são a visão geral da empresa, finanças da empresa, receitas geradas, potencial de mercado, investimento em investigação e desenvolvimento, novas iniciativas de mercado, presença global, localizações e instalações de produção, capacidades de produção, pontos fortes e fracos da empresa , lançamento de produto, largura e amplitude do produto, aplicação domínio. Os dados acima fornecidos estão apenas relacionados com o foco das empresas em relação ao mercado.

Os líderes de mercado de litografia EUV que operam no mercado são:

• Cannon Inc. (Japão)
• ASML (Holanda)
• (Japão)
• SAMSUNG (Coreia do Sul)
• Corporação Intel (EUA)
• Nikon Corporation (Japão)
• SUSS Microtec SE (Alemanha)
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited (Taiwan)
• (EUA)
• Vistec Electron Beam GmbH (Alemanha)
• Zeiss Internacional (Alemanha)
• (Japão)
• NTT Advanced Technology Corporation (Japão)
• A Toshiba Índia Unip. Lda. (Índia)
• Fundições Globais (EUA)

Últimos desenvolvimentos no mercado da litografia EUV

• Em março de 2022, a Intel anunciou o início da produção em grande volume utilizando máquinas de litografia EUV nas suas novas instalações de 18,5 mil milhões de dólares na Irlanda. Este desenvolvimento marca uma conquista significativa para a Intel, demonstrando a sua capacidade de fabricar semicondutores avançados em escala com tecnologia EUV. Este marco é crucial para a Intel, que se esforça por recuperar a sua vantagem competitiva no mercado de semicondutores contra rivais como a TSMC e a Samsung.
• Em janeiro de 2022, a ASML e a Intel Corporation anunciaram uma nova fase na sua parceria de longa data para o avanço da tecnologia de litografia de semicondutores. Esta colaboração centra-se no aperfeiçoamento das capacidades dos sistemas de litografia de ponta, essenciais para o fabrico de microchips cada vez mais complexos. Ambas as empresas pretendem aproveitar a sua experiência para acelerar a inovação no campo dos semicondutores, respondendo à crescente procura por chips mais pequenos e mais eficientes em diversas aplicações.
• Em outubro de 2021, a Samsung Electronics iniciou a produção em massa de chips DRAM de 14 nanómetros, utilizando tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV). Este avanço significa um grande avanço em comparação com a litografia a laser Arf tradicional, permitindo projetos de circuitos mais finos em wafers semicondutores. Ao adotar a tecnologia EUV, a Samsung melhora as suas capacidades de produção, posicionando-se como líder na produção de soluções avançadas de memória cruciais para dispositivos eletrónicos modernos
• Em março de 2021, a Samsung Electronics intensificou os seus esforços para produzir scanners EUV, aumentando a sua vantagem competitiva em relação à fundição líder, a TSMC. Estes scanners avançados simplificam o processo de fabrico de chips, reduzindo o número de passos de fotolitografia necessários para projetos de circuitos complexos. Esta medida sublinha o compromisso da Samsung em adotar tecnologias de próxima geração, que são essenciais para manter o ritmo no cenário altamente competitivo dos semicondutores.

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