Globaler Markt für Anlagen zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD)
Bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) entsteht durch die Reaktion von chemischen Reaktanten in der Dampfphase ein nichtflüchtiger fester Film auf einer Oberfläche. Sie werden hauptsächlich zur Bildung von Beschichtungen für verschiedene Anwendungen wie Korrosionsbeständigkeit, Hochtemperaturschutz, Verschleißfestigkeit und andere verwendet. CVD ist ein experimentelles System, das in einem CVD-Reaktor bei hohen Temperaturen von etwa 1925 °F durchgeführt wird. CVD umfasst verschiedene Prozesse wie chemische Gasphasenabscheidung bei niedrigem Druck, chemische Gasphasenabscheidung mit Laser, photochemische Gasphasenabscheidung, chemische Gasphaseninfiltration und andere. Sie sind normalerweise feinkörnig, hochrein und undurchlässig. Einige der bei CVD verwendeten gängigen Technologien sind Atomlagen-CVD, organometallische CVD, plasmaverstärkte CVD, plasmaunterstützte CVD und andere.
Den vollständigen Bericht finden Sie unterhttps://www.databridgemarketresearch.com/de/reports/global-chemical-vapor-deposition-cvd-equipment-market
Einige der Faktoren, die für das Wachstum dieses Marktes verantwortlich sind:
- Wachstum in der Halbleiterindustrie: Die Halbleiterindustrie kann sich aufgrund des rasanten technologischen Fortschritts auf Wachstum freuen. Halbleiter sind Schlüsselkomponenten elektronischer Systeme. Sie sind aufgrund ihrer Fähigkeit, unter bestimmten Bedingungen Elektrizität zu leiten, für die Regulierung elektrischer Ströme nützlich. Im heutigen Szenario künstliche Intelligenz wird voraussichtlich der Motor hinter dem langen Wachstumszyklus des Halbleitersektors sein. Halbleiter dienen als Modell für die neuen Technologien des Internets der Dinge (IoT). Die IoT-Revolution hat nicht nur die Nachfrage nach Halbleiterchips erhöht, sondern auch Software und Anwendungen zur Wertschöpfung
- Steigende Nachfrage der Bevölkerung nach Elektronik: Elektronik ist eine der heutigen Innovationen, die weltweit weit verbreitet sind. Sie ist sehr gefragt, da sie unser Leben einfacher und bequemer macht. Heute verfügen wir über neue elektronische Technologien wie Fernsehen, Computer und andere, die mit Elektronik hergestellt werden. Sie machen auch die Kommunikation schneller und einfacher, da wir heutzutage über Mobiltelefone, Videochat und Internet mit jedem in Verbindung treten können. Mit all diesen Geräten können wir unsere Botschaft zu sehr geringen Kosten einfach und klar ausdrücken. Mit einer Menge Informationen kann man über das Internet mehr Wissen erlangen. Mit dem Sicherheitssystem wie den Überwachungskameras wurde auch die Sicherheit in Organisationen, Privathaushalten, Banken und anderen erhöht.
Der globale Markt für Anlagen zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) ist segmentiert auf der Basis von Kategorien wie CVD-Anlagen, CVD-Dienstleistungen und CVD-Materialien; Anwendungen wie Beschichtungen, Elektronik, Katalyse und andere; Technologie wie Atomlagen-CVD, laserinduzierte CVD, organometallische CVD, plasmaverstärkte CVD, plasmaunterstützte CVD, Niederdruck-CVD und andere; Produkt wie chemische Gasphasenabscheidung bei atmosphärischem Druck, chemische Gasphasenabscheidung bei Niederdruck, chemische Gasphasenabscheidung mit dichtem Plasma und metallorganische chemische Gasphasenabscheidung und Endverbraucher wie Speicher, Gießerei, IDM und Logik.
Im Folgenden sind einige der Markteinführungen und Akquisitionen aufgeführt:
- Im November 2017 gab CVD Equipment Corporation bekannt, dass sie die Vermögenswerte von MesoScribe Technologies Inc. erworben hat. MesoScribe ist auf der Grundlage seiner patentierten Direct Write Thermal Spray (DWTS)-Software auf die Herstellung von Sensorprodukten für raue Umgebungen und strukturell integrierter Elektronik spezialisiert. Diese Übernahme verschafft CVD Zugang zu einer zusätzlichen Beschichtungstechnologie, die dem Unternehmen helfen wird, sein Produktportfolio zu erweitern und seine Marktposition zu festigen.
- Im April 2018 gab Oerlikon Balzers die Übernahme der Sucotech AG bekannt. Diese Übernahme wird dem Unternehmen helfen, sein Produkt- und Serviceangebot zu erweitern. Oerlikon Balzers verfolgt seit langem die Strategie, sich am Wachstum zu beteiligen und sein breites Angebot an Systemen, Beschichtungstechnologien und Dienstleistungen zu entwickeln, um zuverlässige und personalisierte Lösungen anzubieten. Mit dieser Übernahme wird das Unternehmen in der Lage sein, seinen Kunden bessere Dienstleistungen anzubieten
„Laut Data Bridge Market Research wird der globale Markt für Anlagen zur chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) im Prognosezeitraum 2019–2026 eine beträchtliche durchschnittliche jährliche Wachstumsrate (CAGR) von 7,95 % verzeichnen.“
Zu den derzeit größten Wettbewerbern auf dem weltweiten Markt für CVD-Geräte zählen unter anderem AIXTRON, Applied Materials, Inc., ASM International, CVD Equipment Corporation, Hitachi Kokusai Electric Inc, IHI Corporation, Jusung Engineering Co., Ltd., LAM RESEARCH CORPORATION, Plasma-Therm, Tokyo Electron Limited, ULVAC, Veeco Instruments Inc., Oxford Instruments und Mustang Vacuum Systems.
Die steigende Nachfrage nach CVD in der Mikroelektronik wird die Nachfrage nach CVD-Geräten auf dem Markt beschleunigen. Auch die Verwendung von Hochleistungsfolien in Solarmodulen nimmt zu, was sich ebenfalls positiv auf den Markt auswirken wird. Bei CVD-Geräten finden viele technologische Entwicklungen und Innovationen statt, die den Markt ebenfalls stärken werden. Steigende Investitionen in die Halbleiterindustrie schaffen weitere neue Möglichkeiten für diesen Markt.
