COVID-19 Impact on Pharmaceutical Packaging in Chemicals and Materials Industry

科学者らがプロセッサの熱をより速く放散する優れた技術を発見

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  • 2021年9月8日

UCL のエンジニアは、高出力コンピューター チップに使用され、プロセッサーの熱を減らして最終的にパフォーマンスを向上させる新しい半導体材料の、収益性の高い統合を完璧に実証しました。コンピューターのプロセッサー内では多くの計算が行われるため、大量の熱が放出されます。チップ業界はこれに取り組んでおり、適切なソリューションを提供するために奮闘しています。膨大な研究により、コンピューターのエネルギー効率が大幅に向上し、現在入手可能な最高の熱管理デバイスを超える熱放散が可能になりました。

コンピュータのプロセッサは長年にわたりナノスケールまで縮小され、1つのコンピュータチップに数十億個のトランジスタが搭載されています。トランジスタの数が増えると、コンピュータの速度と性能が向上しますが、高密度スペースにホットスポットが増え、動作中に熱を効率的に放散する方法がなければ、コンピュータプロセッサの速度が低下し、信頼性が低く非効率的な計算能力につながります。さらに、コンピュータチップ内の熱と温度が集中しているため、プロセッサの過熱を防ぐために、冷却ファンなどの余分なエネルギーが必要です。この問題を解決するために、Hu氏と彼のチームは2018年に超高熱管理を備えた新しい材料の開発に着手しました。研究者たちは研究室で欠陥のないヒ化ホウ素を開発し、ダイヤモンドや炭化ケイ素などの他の既知の金属や半導体材料よりも熱を抽出して放散する効果がはるかに高いことを発見しました。現在、チームは初めて、この材料を高性能機器に組み込むことでその有効性を実証することに成功しました。